Hochgenaue Anwendungen in Lithographie und Messtechnik verlangen zunehmend eine präzise Positionierung von Substraten, wie Wafer oder Masken, im Nanometerbereich. Um die hohen Anforderungen bezüglich Wiederholbarkeit und Positionierungsgenauigkeit zu beherrschen, sind störende Einflüsse wie Reibung oder Stick-slip Effekt nicht akzeptabel. Die hervorragenden Qualitäten von gasgelagerten bzw. gasgeführten Komponenten und Systemen, ermöglichen Bewegungen mit exzellenten Bewegungseigenschaften und nahezu ohne Reibung. Am Fraunhofer IOF werden Kombinationen von Führungen, Lagern und Antrieben realisiert und maßgeschneiderte mechanische Lösungen entwickelt. Neben Systemen für Normalatmosphäre entwickelt das Fraunhofer IOF zunehmend Bewegungssysteme für das Vakuum. Um die bekannten Führungseigenschaften gasgeschmierter Systeme auch in einer Vakuumumgebung zu erhalten, werden zusätzliche Komponenten wie z. B. berührungsfreie Absaugsysteme integriert.
Einen weiteren Schwerpunkt bilden optische Systeme zur Strahlformung und Strahlablenkung. In der Verbindung von Optik und Feinmechanik entstehen Scanner und Belichtungssysteme für die schnelle und präzise Strahlablenkung.
Unser Angebot:
- Gantry-Systeme
- Parallelkinematik
- Scanner-Systeme