Die Erzeugung und Replikation optischer Mikro- und Nanostrukturen ist Grundlage für moderne komplexe optische Systeme. Die am Fraunhofer IOF vorhandene technologische Basis – wie z. B. Grautonlithographie, Elektronenstrahllithographie, reaktives Ionenätzen, Step & Repeat Replikation, Wafer-Level- Fertigung oder auch Abformtechniken – erlauben die Fertigung und Charakterisierung von High-End mikro- und nanooptischen Elementen höchster Auflösung auf bis zu 12"-Substraten und auch auf gekrümmten Oberflächen. Anwendungsfelder sind zum Beispiel Beugungsgitter, CGHs (Computergenerierte Hologramme), Mikrolinsen-Arrays, Diffusoren oder auch stochastische Strukturen. Lithographische Techniken erlauben die simultane Herstellung einer großen Zahl von Elementen mit höchster lateraler Genauigkeit. Als äußerst flexibles direkt-schreibendes Verfahren ermöglicht die maskenlose Grautonlithographie die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofilen.
