In der Halbleiterlithographie wird gegenwärtig massiv die Optimierung im tiefen UV-Bereich (DUV) bei 193 nm bis an ihre Grenzen vorangetrieben. Für die Streulichtanalyse bedeutet dies, dass optische Komponenten von superglatten Substraten bis zu nanostrukturierten Schichtsystemen sowie hochreine Materialien bei dieser Einsatzwellenlänge sensitiv und effizient charakterisiert werden müssen. Das System DUOSTaR mit seinen verschiedenen Messmodi ist weltweit das Einzige, das diese Anforderungen erfüllt.