Die Entwicklungen in der Nanotechnik stellen die quantitative Charakterisierung (Metrologie) von Oberflächenstrukturen vor neuartige Herausforderungen. Die für Mikrostrukturen etablierten Verfahren und Charakterisierungsmerkmale lassen sich nur begrenzt in den Nanometerbereich übertragen.
Außer der Rasterkraftmikroskopie (AFM), die Oberflächen lokal bis in Bereiche von ca. 100 x 100 µm² erfasst, setzen wir für die Nanometrologie weitere Verfahren ein, die größere Messbereiche überdecken und sich mit Ihren unterschiedlichen Leistungsparametern ideal mit AFM kombinieren lassen. Das betrifft insbesondere die Streulichtmessung, Weißlichtinterferometrie (WLI) und konfokale Mikroskopie (LSM). Die Kombination dieser Verfahren wird möglich durch Analyse der Power Spectral Density Funktion (PSD).