EUV-Schwarzschild-Objektiv für Anwendungen in der EUV-Lithographie.
Schwarzschild-Objektive für Anwendungen im EUV-Spektralbereich bestehen aus einem konkaven und einem konvexen Mo/Si-Multilayerspiegel. Je nach Richtung des Strahlengangs ist ein Einsatz in der Mikroskopie oder der Lithographie möglich. Durch Integration in eine Laserplasma-Quelle konnte die Direktstrukturierung ausgewählter Materialien realisiert werden.
Motivation
Schwarzschild-Objektive werden im EUV-Spektralbereich wegen ihrer großen Apertur, der Freiheit von chromatischen Aberrationen und ihrer hohen mechanischen Stabilität zunehmend als Abbildungsoptiken eingesetzt. Ein Schwarzschild-Objektiv besteht aus einem Primär- und einem Sekundärspiegel, wobei sowohl sphärische als auch asphärische Oberflächen realisierbar sind. Die optischen Elemente werden über Festkörpergelenke spannungsarm und mechanisch stabil gehaltert. Die Objektivbaugruppe kann für eine in-situ Justierung ausgelegt werden.
Kompetenzen
- Realisierung beugungsbegrenzter Objektivbaugruppen für 13,5 nm mit einer Auflösung von <20 nm
- EUV-Optik-Design nach kundenspezifischen Anforderungen
- Fertigung der beschichteten Optik-Komponenten für 13,5 nm
- Mechanik-Design und Konstruktion der Objektivbaugruppe
- Spannungsarme Halterung der optischen Komponenten mit minimaler Deformation der optisch wirksamen Flächen
- Positionsgenauigkeit der optischen Flächen: < 1,5 µm Dezentrierung, < 10 µm axialer Versatz
- Fassungsdesign frei von Kohlenwasserstoffen
Unser Angebot
- Design und Fertigung von Schwarzschild-Objektiven für den EUV-Spektralbereich nach kundenspezifischen Anforderungen
- Beschichtung von Schwarzschild-Objektiven mit lateralen Mo/Si-Gradientenschichtsystemen, Transmission: T > 45 % @ 13,5 nm
- Auslegung, Berechnung und Realisierung der Spiegelhalterung