![Optisches Design eines CGHs für einen Freiformspiegel. Optisches Design eines CGHs für einen Freiformspiegel.](/de/kompetenzen/messverfahren-und-charakterisierung/optikcharakterisierung/vermessung-freiformen-cgh/jcr:content/contentPar/sectioncomponent/sectionParsys/textwithinlinedimage/imageComponent1/image.img.jpg/1554730165675/Optisches-Design-CGH-Fraunhofer-IOF.jpg)
Optisches Design eines CGHs für einen Freiformspiegel.
![Strukturiertes CGH auf 6-Zoll Mask Blank (152 mm x 152 mm x 6,35 mm). Strukturiertes CGH auf 6-Zoll Mask Blank (152 mm x 152 mm x 6,35 mm).](/de/kompetenzen/messverfahren-und-charakterisierung/optikcharakterisierung/vermessung-freiformen-cgh/jcr:content/contentPar/sectioncomponent/sectionParsys/textwithinlinedimage/imageComponent2/image.img.jpg/1554730165675/Strukturiertes-CGH-Mask-Blank-Fraunhofer-IOF.jpg)
Strukturiertes CGH auf 6-Zoll Mask Blank (152 mm x 152 mm x 6,35 mm).
![Aufbau zur interferometrischen Vermessung eines Freiformspiegels. Aufbau zur interferometrischen Vermessung eines Freiformspiegels.](/de/kompetenzen/messverfahren-und-charakterisierung/optikcharakterisierung/vermessung-freiformen-cgh/jcr:content/contentPar/sectioncomponent/sectionParsys/textwithinlinedimage/imageComponent3/image.img.jpg/1554730165675/Aufbau-Freiform-Spiegel-Messung-CGH-Fraunhofer-IOF.jpg)
Computer-generierte Hologramme (CGHs) ermöglichen die kontaktfreie, interferometrische Vermessung anspruchsvoller optischer Oberflächen, wie z. B. Asphären oder Freiformen, mit Genauigkeiten < 10 nm RMS. Für die Realisierung dieser Genauigkeiten bedarf es einer hochpräzisen lithographischen Herstellung und der Verwendung spezieller Substrate
mit Ebenheiten im Sub-100nm-Bereich.
Unser Leistungsangebot:
- Optisches Design von Phasenfunktionen und Layout
- Bereitstellung und Korrektur von Substraten (transmittierter Wellenfrontfehler < 10 nm RMS)
- Lithographische Herstellung
- Charakterisierung der Positioniergenauigkeit
- Messung des transmittierten Wellenfrontfehlers
Lithographische Prozesskette
- Beschichtung des Substrats mit Chrom und Photoresist
- Belichtung mittels Elektronenstrahl-Lithographie
- Strukturtransfer in Chrommaske durch reaktives Ionenätzen (RIE)
- Strukturtransfer in Substrat durch RIE
- Entfernen der Chrommaske (auch selektiv möglich)
Technische Parameter
- Verfügbare Substratgrößen:
- 6-Zoll (152 x 152 x 6,35) mm
- 9-Zoll (230 x 230 x 9) mm
- ET (292 x 150 x 15) mm
- Positioniergenauigkeit Belichtungsprozess < 20 nm (3σ)