Mikro- und nanostrukturierte Optiken sind über Methoden der Lithographie darstellbar, wobei die technologischen Anforderungen an die Lithographiesysteme und -prozesse signifikant von denen der Mikroelektronik abweichen und in vielen Punkten darüber hinausgehen.
Das Fraunhofer IOF besitzt langjährige Kompetenz auf dem Gebiet der Realisierung anspruchsvoller optischer Mikro- und Nano-Strukturen.
Schlüsseltechnologien sind die Elektronenstrahllithographie zur Urbilderzeugung und Transferprozesse ausgehend vom Urbild (Strukturübertragung durch Ätzprozesse) und deren Replikation (Strukturübertragung durch Nano-Abformung).
Die verfügbare technologische Ausstattung ermöglicht die effiziente Realisierung solcher Strukturen auf Flächen bis 300 mm Ausdehnung mit höchster Präzision und Auflösung.
