Motivation
Reproduzierbare Herstellung von Mikrolinsen mit durch optische Designrechnungen optimierten Parametern.
Technologie
- Mastering durch Grautonlithographie oder binäre Maskenlithographie mit Reflow
- Abformen durch UV-Reaktionsguss oder
- Übertragung in Silizium, Glas oder Quarz durch Trockenätzen
- Antireflex-Beschichtung, Vereinzelung
- Integration von Blenden-/Filterstrukturen
- Beidseitige Strukturierung (Tandemarrays)
Geometrie der Linsenarrays
- Sphärische, zylindrische oder elliptische Linsen; Höhe bis 100 μm
- Layout und Brennweite variierend über das Array / den Wafer (»Chirp«)
- Linsendurchmesser: 5 μm – 3000 μm
- Auflösung / Linsenabstände: 1 μm
- Hoher Füllfaktor, laterale Präzision
- Brennweitenhomogenität: ±1 % über Wafer
- Asphären möglich durch speziellen reaktiven Ionenätzprozess (RIE)
- 100 % Füllfaktor von Arrays durch RIE gestütztes Mastering möglich
Vervielfältigung durch Abformung auf prozessierten Wafern (CMOS, VCSEL)
- Dünner Polymerfilm auf Glas, Si, etc.
- Hohe laterale und axiale Präzision
- Hohe chemische / thermische Stabilität
Anwendungen
- Laser- / Faser-Kollimation
- Strahlformungsoptik, Homogenisierung
- Füllfaktorerhöhung von Empfängerarrays
- Displaytechnik / Gesichtsfeldanpassung
- Miniaturisierte Abbildungsoptik, Sensoren