Die UV-Abformung ist ein kostengünstiges Verfahren zur Herstellung von Mikrooptik im Wafermaßstab. Dazu wird in einem Kontakt-Mask-Aligner flüssiges Polymerharz zwischen einem Substrat (z. B. Glas- oder Halbleiterwafer) und einem transparenten Abformwerkzeug UV-gehärtet.
Das Verfahren hat sich in den Bereichen etabliert, wo die Präzision oder Stabilität von All-Polymer-Optik nicht ausreicht, z. B. bei:
- Kollimation von Laser- oder Faserarrays
- Diffraktiven Elementen
- Mikrooptik direkt auf CMOS-Si-Wafern
- Wafer-Level Miniaturkameras
oder weiteren komplexen/mehrlagigen mikrooptischen Systemen.
Durch selektive UV-Belichtung können Bereiche der Substratoberfläche für elektrische Kontakte oder für die Montage frei von Polymer bleiben.
UV-Abformung kann auch zur schnellen Erzeugung von optischen Funktionsmustern vor einer Massenfertigung (z. B. mit Spritzguss) eingesetzt werden.
Die Verwendung entsprechend stabiler UV-härtbarer Polymerharze erlaubt die nachfolgende Beschichtung/Vereinzelung und weitere Schritte wie z. B. Löten oder Bonden.