Hochvakuumbedampfungsanlagen (Ionen-gestützte Elektronenstrahlverdampfung, thermische Verdampfung)
- Substratgrößen bis zu 100 mm
- Materialien: Metalle, Metalloxide, Metallfluoride, Organische Materialien
Magnetron-Sputtersysteme (auch reaktive Prozesse)
- Substratgrößen bis zu 650 mm
- Materialien: Metalle, Metalloxide, Indiumzinnoxid(ITO)-Schichten, Legierungen (Lötlegierungen), EUV-Multilayerschichten
Atomlagenabscheidungsprozesse (ALD-Prozesse)
- Prozesse für thermische und plasmaunterstützte ALD-Schichten
- Substratgrößen bis zu 330 mm
- Materialien: Oxide, Metalle, maßgeschneiderte Composite
Ausgewählte Beschichtungsanlage
Precicoat – Magnetronsputtern für die Präzisionsoptik
