EUV-Messsystem MERLIN

Motivation

Vor-Ort Charakterisierung optischer Komponenten für die EUV Lithographie.

 

Systemparameter

  • Arbeitswellenlänge: 13,5 nm
  • Einfallswinkel: 1,5° - 85°
  • Winkelauflösung: 0,01°
  • Sensitivität: 10-5

 

Umsetzung

Labor-basiertes Messsystem: Measurement of EUV Reflectance und Scattering - MERLIN

 

Unser Angebot

  • Messung von: 
  • EUV Reflexion
  • Winkelaufgelöstem Streulicht

  • Weitergehende Analyse:
  • Bestimmung des Totalen Streulichts
  • Messung der Struktureigenschaften

  • Entwicklung maßgeschneideter EUV-Messsysteme