Am Fraunhofer IOF werden Metrologietische mit integriertem elektrostatischen Waferchuck entwickelt, die in Ionenstrahlbelichtungsanlagen im Hochvakuum eingesetzt werden. Die Tischbaugruppe umfasst eine Metrology Unit mit angearbeiteten Interferometerspiegeln, eine elektrostatischen Wafer-Chuck mit 5 N/cm2 sowie einen intergrierten, beweglichen Chuck für das Wafer-Handling.
Anforderungen
- Positioniergenauigkeit < 30 nm
- Zeit pro Belichtung: 0,2 s (einschließlich Positionierung)
Mechanische Modellierung (FEM)
- Strukturanalyse mit dem Ziel:
- Deformation der Metrology Unit < 40 nm unter Eigengewicht
- Eigenfrequenz > 200 Hz
- Untersuchung thermomechanischer Eigenschaften
- Entwurf der kinematischen Aufhängung
Design einer Leichtgewichtsstruktur
- Einsatz von Sonderwerkstoffen:
- Keramik SiSiC
- ZERODUR®
- Technologieentwicklung zur:
- Fertigung
- Montage
- Fügetechnik (Kleben)
Toleranzen der Interferometerspiegelanordnung
- orthogonal ± 2“
- pyramidal ± 30“