Baugruppen der Ionen-Projektions-Lithographie

Am Fraunhofer IOF werden Metrologietische mit integriertem elektrostatischen Waferchuck entwickelt, die in Ionenstrahlbelichtungsanlagen im Hochvakuum eingesetzt werden. Die Tischbaugruppe umfasst eine Metrology Unit mit angearbeiteten Interferometerspiegeln, eine elektrostatischen Wafer-Chuck mit 5 N/cm2 sowie einen intergrierten, beweglichen Chuck für das Wafer-Handling.

 

Anforderungen

  • Positioniergenauigkeit < 30 nm
  • Zeit pro Belichtung: 0,2 s (einschließlich Positionierung)

 

Mechanische Modellierung (FEM)

  • Strukturanalyse mit dem Ziel:
  • Deformation der Metrology Unit < 40 nm unter Eigengewicht
  • Eigenfrequenz > 200 Hz
  • Untersuchung thermomechanischer Eigenschaften
  • Entwurf der kinematischen Aufhängung

 

Design einer Leichtgewichtsstruktur

  • Einsatz von Sonderwerkstoffen:
  • Keramik SiSiC
  • ZERODUR®
  • Technologieentwicklung zur:
  • Fertigung
  • Montage
  • Fügetechnik (Kleben)

Toleranzen der Interferometerspiegelanordnung

  • orthogonal ± 2“
  • pyramidal ± 30“