Motivation
Schwarzschild-Objektive werden wegen ihrer großen Apertur, der Freiheit von chromatischen Aberrationen und ihrer hohen mechanischen Stabilität zunehmend als Abbildungsoptiken im EUV-Spektralbereich genutzt.
Die Einsatzmöglichkeiten derartiger Objektive sind vielfältig und reichen von Anwendungen für die EUV-Lithographie über die Grundlagenforschung mit Synchrotronstrahlung bis zu Abbildungsoptiken für Röntgenlaser.
Je nach Richtung des Strahlengangs können die aus einem konvexen und konkaven Multilayerspiegel bestehenden Objektivbaugruppen zur Vergrößerung (z. B. Mikroskopie) oder Verkleinerung (z. B. Lithographie) von Objekten eingesetzt werden.
Technologie
- Wegen der maximal zulässigen Deformation der optisch wirksamen Flächen im Subnanometer-Bereich ist die Verformung der Spiegelsubstrate durch Gravitation, Spannungen der Beschichtung sowie die mechanische Objektivhalterung zu berücksichtigen und zu korrigieren (kinematische Aufhängung).
- Athermales Design
- Einsatz eines polymerfreien Fügeverfahrens für optische Elemente auf Basis eines Lötprozesses zur Zentrierung der Bauelemente mit Mikrometergenauigkeit.