Die Existenz- und Ausbreitungsbedingungen für Licht in sogenannten Photonischen Kristallen werden durch die periodische Strukturierung dielektrischer Materialien gesteuert.
Dabei wird einerseits die Ausbreitung von Licht für bestimmte Spektralbereiche vollständig unterdrückt, was z. B. für die Realisierung von Farbfiltern wichtig ist, andererseits werden Dispersions- und Beugungseigenschaften mittels dieser Strukturen gesteuert. Dies geht bis zur beugungsfreien Ausbreitung von Lichtstrahlen für bestimmte Richtungen im Kristall.
Diese neuartigen photonischen Materialien besitzen vielfältige Anwendungspotenziale und benötigen eine präzise kontrollierte Strukturierung im Subwellenlängenbereich. Für die Herstellung von Photonischen Kristallen in verschiedenen dielektrischen Materialien wird deshalb vor allem die Elektronenstrahllithographie eingesetzt.