Das Fraunhofer IOF erforscht in Kooperation mit Unternehmen eine neue Technologie, röntgen amorphe Silizium-Schichten auf ultrapräzisen Substraten in der für eine Polierbearbeitung notwendigen Schichtdicke mittels Magnetronsputtern haftfest und spannungsarm abzuscheiden. Die Herausforderung bei der Fertigung komplexer optischer Bauelemente wie Asphären oder Freiformen für den visuellen und ultravioletten Spektralbereich, liegt in der Politur der Si-Substratoberflächen nach der Ultrapräzisionsbearbeitung.
Aktuelle Ergebnisse zeigen, dass Oberflächenrauheiten von unter 1 nm RMS durch verschiedene Polierverfahren erreicht werden. Die Technologie eignet sich für die Herstellung optischer Elemente für Anwendungen vom infraroten bis in den ultravioletten Spektralbereich.