Lithographie, RIE sowie UV-Abformung zeichnen sich durch hohe laterale Präzision aus. Somit kann die Periode eines Linsenarrays sub-µm-genau an die Periode eines weiteren Linsenarrays oder an die Periode von Faser-, Detektor- oder Empfängerarrays angepasst werden, eine Grundvoraussetzung für den Aufbau mikrooptischer Systeme.
Die Integration kann im Wafermaßstab erfolgen.
Typische Beispiele sind:
- UV-Abformung auf VCSEL oder Detektorwafer
- Multifunktionselemente durch Kombination von Technologien
- Doppelseitige UV-Abformung im Mask Aligner
- Beidseitig RIE geätzte Strukturen
- Beschichtung; neben der Entspiegelung können Schichtbauelemente wie Filter, Strahlteiler etc. integriert werden
- Elektrodenstrukturen
- Blendenstrukturen, sowohl metallisch als auch absorbierender Kunststoff
Erst am Ende wird der Wafer vereinzelt in mikrooptische Subsysteme.