Ein Schwerpunkt der Mikrooptik-Technologie am Fraunhofer IOF ist die lithographische Erzeugung von Mikrolinsenarrays oder anderen optischen Mikrostrukturen.
Lithographische Technologien ermöglichen die lateral sehr präzise, parallele Erzeugung einer großen Zahl beugungsbegrenzt arbeitender mikrooptischer Elemente im Wafermaßstab. Diese können direkt eingesetzt werden (Rapid Prototyping), werden jedoch meist als Master für anschließende Abformverfahren genutzt oder mittels Trockenätzen in Substratmaterialien wie Glas oder Silizium übertragen.
Neben regulären Linsenarrays ist es möglich, Größe und Orientierung/ Anordnung von Mikrolinsen auf einem Wafer sowie den zugehörigen Krümmungsradius individuell und unabhängig voneinander durch entsprechende CAD-Vorgaben einzustellen.
Dies ermöglicht z. B.:
- Anwendungsangepasste Mikrooptiken (Brennweite, numerische Apertur,...)
- Graduelle Änderung über das Array (»Chirp«),
- Arrays mit »statistisch« verteilten Parametern.