Das Fraunhofer IOF berechnet, präpariert und charakterisiert optische Schichtsysteme für Anwendungen vom nahen infraroten- bis zum ultravioletten Spektralbereich.
Arbeitsschwerpunkte sind:
- Design optischer Schichtsysteme
- Klassische und plasma-ionengestützte Abscheidung der Schichten
- Optisches Monitoring (u. a. optisches Breitbandmonitoring)
- Messung und Optimierung der optischen Eigenschaften von Schichtsystemen
Die Schichtabscheidungen werden an einer Balzers BAK 640 (klassisches Elektronenstrahlverdampfen) bzw. einer Leybold Syruspro (plasma-ionengestützt) mit der Advanced Plasma Source (APS) durchgeführt.
Zur Untersuchung der optischen Eigenschaften kommt Spektralphotometrie (Messungen von gerichteter und diffuser Transmission und Reflexion) zum Einsatz.
Für ortsaufgelöste Untersuchungen steht ein Mikroskopphotometer zur Verfügung.
Die branchenüblichen Tests zur mechanischen- bzw. Klimabeständigkeit sind im Hause verfügbar, ebenso ein Tencor-Messplatz zur Bestimmung mechanischer Schichtspannungen.
